有些真空鍍膜機真空計的讀數，與氣體種類有關，比如熱偶計，電離真空計。選用適當的氣體或液體做示漏物質，這些真空計便成了探測器，一般鍍膜機上都有真空計，使用起來很方便，也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質有，二氧化碳，丁烷，酒精等熱偶計反應較慢，觀察要很仔細。用于電離計的示漏物質有氦，氬，酒精等。

真空系統是鍍膜機達到工藝條件的基本設備，其真空度達不到或者達到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏點所致，所以真空卷繞鍍膜機設備的真空系統需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機通常采用氦質檢漏儀來查漏，主要用負壓法檢漏即將氦質譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機的真空系統，在可能泄漏地方噴氦檢漏。

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真空鍍膜機的工作原理如下：
在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此，當評價某薄膜樣品的性能時，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀態不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進行真空的獲得，非常耗時。增加了生產和檢測的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統，本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發鍍膜與手套箱組合，實現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環境氛圍的系統中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環境中不穩定因素影響，保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。

如何處理真空鍍膜的灰塵呢
1、設備使用的源材料要符合必要的純度要求。
2、設備樣品取出后要注意放置環境的清潔問題。
3、真空鍍膜一段時間后，真空室內壁要清潔處理。
4、真空鍍膜清洗襯底材料，要做到嚴格合乎工藝要求。
5、真空鍍膜適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物。
6、工作人員在操作時需要戴手套、腳套等，要有的服裝。
由于灰塵對鍍膜效果會產生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設備中留下灰塵，應該在使用中注意以上幾點來盡量避免，除此也要注意經常清洗，避免灰塵越積越多。

主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。
光學鍍膜設備工作原理是在高真空狀態下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度，材料受熱后蒸發成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發源至被蒸發基片距離大，蒸發出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護與保養主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養。